高考问答歌手张冬玲的歌曲:工业上高硅可通过下列反应制取:SiCl4+2H2=Si+4HCl 该反应热＝？
来源：百度文库 编辑：高考问答 时间：2024/04/27 23:40:39
工业上高硅可通过下列反应制取:SiCl4+2H2=Si+4HCl 该反应热＝？ （Si-Cl=360k焦 H－H＝436k焦 Si-Si=176k焦 H－Cl=431k焦
这个是2005年江苏省的一道高考题啊。
需要注意的是Si是四面体结构，一个硅和四个硅相连，有4个硅硅键，但是属于这个硅的只有2个硅硅键,因为周围的四个硅原子都只有一半属于中间这个硅原子。
所以反应热=4*360+2*436-2*176-4*4314=236千焦/摩尔
段开键需吸收热量,形成键放热
计算可知吸热2312千焦放热1724
故反映总放热为2312-1724=588KJ
236千焦/摩尔